iH1000爱德华半导体干泵维修
iH1000 干式泵 460V，60 Hz，3 相
A59030908
技术数据
峰值速度 1000 m3h-1
589 cfm
16670 l min-1
极限真空 1 x 10-3 mbar
7.5 x 10-4 Torr
0.1 Pa
典型轴封氮流量 4 slm
进气口连接 ISO100
出口连接 NW40
15 psi 压降下典型冷却水流量240 l h-1
4 l min-1
重量 430 kg
极限功率输入 3.8 kW
电机额定功率 6.1 kW
油容量 1.48 l
所有数字均为无气镇时的典型值。
iH1000 干式泵 200/208V，50/60 Hz，3 相
A59030945
技术数据
50 Hz 60 Hz
峰值速度 950 m3h-11000 m3h-1
560 cfm 589 cfm
15837 l min-116670 l min-1
极限真空 2 x 10-3 mbar1 x 10-3 mbar
1.5 x 10-3 Torr7.5 x 10-4 Torr
0.2 Pa 0.1 Pa
典型轴封氮流量 4 slm 4 slm
进气口连接 ISO100 ISO100
出口连接 NW40 NW40
15 psi 压降下典型冷却水流量240 l h-1240 l h-1
4 l min-14 l min-1
重量 430 kg 430 kg
极限功率输入 3.5 kW 3.8 kW
电机额定功率 5.1 kW 6.1 kW
油容量 1.48 l 1.48 l
功能和优势
优化了设施消耗。
无需预防性维护。
悬臂轴和特殊的异型转子便于颗粒的处理。
在节省电机功率的同时大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的安全保证。
整体式轴杆无需使用电机联结器，而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积，从而降低了总体占地面积
概述
Edwards 高级半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照最高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时大程度地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的可靠性和性能。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高可靠性。
应用
负载锁
输送
计量
平版印刷
PVD 制程
PVD 预清洁
RTA
剥离/灰化
刻蚀
植入源
HDP CVD
RTP
SACVD
MCVD
PECVD
LPCVD
ALD
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